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　　透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體及其顯示器應(yīng)用國際會(huì)議“International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors（TAOS 2010）”將于1月25日~26日在日本東京工業(yè)大學(xué)的SUZUKAKEDAI校區(qū)舉行。夏普、佳能、日立制作所、NEC、大日本印刷、凸版印刷、美國惠普（HP）、韓國三星電子（Samsung Electronics）、韓國LG顯示器（LG Display）以及臺(tái)灣友達(dá)光電（AUO）等代表日本、美國、韓國和臺(tái)灣的企業(yè)一線研究人員將發(fā)表特邀演講。

　　透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體作為驅(qū)動(dòng)“新一代FPD”的TFT材料備受期待。這是因?yàn)橥该鞣墙Y(jié)晶氧化物半導(dǎo)體蘊(yùn)含著使基于Si TFT的現(xiàn)行面板實(shí)現(xiàn)高精細(xì)和高速化，并且能夠開拓類似柔性顯示器等新應(yīng)用的可能性。但對(duì)于必須以高成品率來大量制造產(chǎn)品的FPD廠商來說，代替此前用慣了的材料轉(zhuǎn)而采用新材料存在風(fēng)險(xiǎn)。面向?qū)嵱没枰接懙恼n題還很多。克服這些課題需要材料廠商和裝置廠商之間的配合，面向?qū)嵱没⒒锇殛P(guān)系也不可或缺。

　　在這種情況下，此次的國際會(huì)議上第一線的研究人員將齊聚一堂。2004年使透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體的性能提高了一位數(shù)、給該領(lǐng)域帶來光明的東京工業(yè)大學(xué)教授細(xì)野秀雄表示：“如此之多的企業(yè)和研究人員齊聚一堂還是首次。這是一次了解透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體現(xiàn)狀的絕好機(jī)會(huì)。”

　　目前已經(jīng)決定由全球最大的FPD廠商韓國三星電子的高級(jí)顧問（前任副總裁）昔俊亨（Jun H.Souk）發(fā)表主題演講。除了演講外，第8代濺射靶材（Sputtering Target）以及通過透明非結(jié)晶氧化物半導(dǎo)體IGZO（In、Ga、Zn、O）TFT驅(qū)動(dòng)的液晶面板也將展出。