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　　3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發(fā)布聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”

　　荷蘭政府在3月8日表示，計劃對半導體技術出口實施新的管制。據(jù)悉，決定是由荷蘭貿(mào)易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。

　　信中還指出“荷蘭認為有必要以最快的速度對這項技術進行監(jiān)管，因此荷蘭政府將會盡快出臺一份國家管控清單”。

　　盡管信中并沒有指名道姓地點出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

　　ASML表示，由于該等即將出臺的法規(guī)，ASML將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效?；谙嚓P的公告、對荷蘭政府許可證政策的預期以及當前的市場形勢，預計這些管制措施不會對ASML已發(fā)布的2023年財務展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

　　ASML強調(diào)，新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統(tǒng)。截至目前企業(yè)尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。

　　ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司主流的DUV光刻機產(chǎn)品共有三款設備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產(chǎn)品。

　　此外，ASML指出，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求，并稱該公司A長期展望的基礎是全球長期需求和技術趨勢，而不是對具體地域的預期。自2019年以來，ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。

　　ASML此前預計2023年在中國的銷售額將保持在22億歐元左右。

　　ASML聲明如下：

　　荷蘭政府于今日發(fā)布了有關即將出臺的半導體設備出口管制措施的進一步的信息。這些新的出口管制措施側(cè)重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

　　由于該等即將出臺的法規(guī)，ASML將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式DUV系統(tǒng)。

　　這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。

　　基于今日的公告、我們對荷蘭政府許可證政策的預期以及當前的市場形勢，我們預計這些管制措施不會對我們已發(fā)布的2023年財務展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

　　需要重點指出的是：新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統(tǒng)。盡管我們尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息，我們將其解讀為我們在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。此外，我們要指出，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。最后，ASML的長期展望的基礎是全球長期需求和技術趨勢，而不是對具體地域的預期。

　　自2019年以來，ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。