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臺(tái)積電連曝7/5/3nm工藝:不想離開臺(tái)灣

編輯:liuchang 2017-06-13 11:31:23 瀏覽:801  來源:未知

  Intel這批老馬走的有些遲緩,臺(tái)積電和三星電子卻在新工藝上大發(fā)神威。三星此前已經(jīng)集中披露了8/7/6/5/4nm的長遠(yuǎn)規(guī)劃,臺(tái)積電也在7/5/3nm上持續(xù)投入。

  臺(tái)積電計(jì)劃2018年就量產(chǎn)7nm工藝,2019年再投產(chǎn)改進(jìn)版本,首次使用EUV極紫外光刻技術(shù)。——三星也會(huì)在7nm上首次應(yīng)用EUV。

  5nm將在2019年第一季度投入風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn),量產(chǎn)時(shí)間未定,估計(jì)也就在2019年年內(nèi)。

  臺(tái)積電表示,5nm會(huì)在臺(tái)灣南部科技園(STSP)的工廠里投產(chǎn),但后續(xù)產(chǎn)能擴(kuò)充仍要視環(huán)境評(píng)估而定。

  3nm工藝上臺(tái)積電已經(jīng)投入了數(shù)百名工程師,但產(chǎn)地一直懸而未決。臺(tái)積電曾經(jīng)有意將新工廠轉(zhuǎn)移到美國,不過首選還是臺(tái)灣本土。

  臺(tái)積電表示,其在臺(tái)灣北部、中部、南部都有工廠,可以大大降低成本、提高生產(chǎn)效率,但充裕的供電和供水也是至關(guān)重要的。

臺(tái)積電連曝7/5/3nm工藝:不想離開臺(tái)灣

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